准备基础物质：先选择基础物质如硅片，电脑---显影公司，并在其表面上涂上一层光刻胶。布图设计：根据芯片设计，制定合适的---和显影条件，并在计算机上生成掩模图形来辅助芯片制造。---：使用紫外线---机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影喷淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：e2喷嘴，ld喷嘴，gp喷嘴，mgp喷嘴等。
---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、同时---影响图案的线宽，过量---会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，---设备参数和感光性能，确定适合的---时间。
显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。从而形成可见的图片。而在数字摄影中，电脑---显影，---则是相机中的数字传感器接收到光线所对应的信息，电脑---显影报价，并记录下来，再通过数字信号处理，将其转化为图片的过程。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
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