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显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用diw立即冲洗晶圆表面。将显影液涂覆在---后的晶圆表面上，正胶的---区域和负胶的非---区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，亮面标牌---显影厂，就可以显现出光刻胶中的图形，亮面标牌---显影生产商，



---时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，---显影作为玻璃外观修饰的重要工艺，---显影是一种摄影术语，亮面标牌---显影，它是指将感光材料（如胶片、电影胶片或者数字---机中的传感器）通过---的方式记录下光影信息，再通过显影的方式将光影信息制成可视的影像的过程。进行---工艺加工时工艺区间被压缩，只有对公差配合完全掌握，才能简单---的做出合格品。



显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，亮面标牌---显影生产厂商，使用diw立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显---缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆显影工艺是指用显影液去除晶圆上部分光刻胶，形成三维的物理图形


旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
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