显影的因素有显影液浓度、显影温度、显影时间等。在其他条件不变zhi的前提下，手机壳logo---显影工厂，显影液浓度越大，显影速度越快。但如果显影液浓度过大，对图文基础的腐蚀性过强，容易造成网点缩小、残损、亮调小网点丢失以及使感光胶层减薄、强度下降，导致印刷着墨性能降低、耐印力下降。同时会腐蚀和破坏空白部位的氧化膜和封孔层，导致版面出现发白现象，使印版的亲水性和耐磨性变差。
蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2agno3+cu=cu(no3)*2+2ag。利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，手机壳logo---显影设计，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，手机壳logo---显影，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出---、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要---清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在---或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的---。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于---图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
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