---是利用光照将掩模版上的图形经过光学系统后投影到光刻胶上，实现图形转移，是集成电路制造中光刻工艺的重要工序之一。---显影油墨工艺流程,包括以下步骤:s1:玻璃片处理:按照加工尺寸对玻璃片进行裁切,磨边,洗涤,干燥;s2:测量:对s1中所述的处理后的玻璃片的尺寸进行测量,提高了油墨的烘干效率,采用uv灯仅需5秒即可完成烘干,实现局部喷墨,提高了显影,制作工艺简单.标牌---显影企业


光刻工艺的显影方法， 光刻工艺的显影方法，包括：提供半导体晶片，在所述半导体晶片上具有光敏材料层；向所述光敏材料层喷洒显影液，使显影液布满整个光敏材料层表面；其特征在于，进一步包括：停止喷洒去离子水，并继续旋转所述半导体晶片；停止旋转所述半导体晶片。光刻工艺的显影方法，其特征在于：在向 所述光敏材料层喷洒去离子水之前，以小于100rpm的速率旋转所 述半导体晶片，甩掉部分或全部溶解有光敏材料的显影液和多余的显影 液标牌---显影企业


光刻工艺流程溶解掉不需要的光刻胶（显影）丨半导体行业 显影时间。在光刻胶表面的显影液被清洗之前，显影液一直在和光刻胶进行反应。显影程度随显影时间的增加而变化。当然，在新的显影液中显影速率会高一些，随着显影的持续进行，显影液的浓度逐渐下降，显影的速率也会略微下降。为了便于生产控制，---显影的一致性，一般会在显影速率发生明显变化前更换掉显影液。标牌---显影企业

3d玻璃显影---技术在hw maters用到了此技术，该后盖3d玻璃8曲面，弧面曲率大，普通的贴膜技术难以解决，应用范围主要是机型，曲率越大的玻璃加工制造难度加大，良率降低，成本报价相应要高，设计八曲面玻璃主要是为了满足如下两点需求：

1:为压缩整机厚度，后盖弧度大可增加架构空间，另未来5g的发展，器件增加，空间需加大;

2:为满足id对于外观圆润一体，符合人体工程学需求;

综上可推出3d玻璃---显影技术是pet贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。